El método de pulverización magnetrónica es empleado en los sectores de la industria electrónica, de construcción de maquinaria y en la arquitectura, entre otros, para crear revestimientos superficiales metálicos y dieléctricos. De hecho, la pulverización magnetrónica es el único método de depositar en los cristales de edificios los recubrimientos que ayudan a ahorrar energía. Además, este método se usa para depositar revestimientos duros en herramientas de corte y recubrimientos decorativos de todo tipo —por ejemplo, el nitruro de titanio en las cúpulas de las iglesias, en lugar del recubrimiento de oro—. En la microelectrónica, este método se usa para el metalizado de los circuitos integrados y en la industria óptica para fabricar los filtros ópticos.
"No obstante, uno de los antiguos problemas de la deposición magnetrónica seguía siendo la baja velocidad de crecimiento de las películas en las piezas, en comparación, por ejemplo, con la evaporación en vacío", explicó a RIA Nóvosti el ingeniero de MEPhI Alexandr Tumarkin, quien añadió que los revestimientos obtenidos por evaporación en vacío dejan mucho que desear en cuanto a la calidad cuando se comparan con los magnetrónicos.
Según él, los fabricantes siempre se han enfrentado al dilema entre la calidad del producto o la rentabilidad de la producción.
"En el dispositivo diseñado para la emisión de la descarga magnetrónica con el cátodo fundido logramos unir las ventajas de ambas tecnologías", subrayó el investigador, que agregó que la pulverización de alta potencia del blanco fundido posee un gran potencial tecnológico.